三大指数先抑后扬，沪指盘中再创新低2689.70点。创业板跌幅居前，跌-0.11%。

  盘面上，工程机械、白色家电、港口航运、石油加工贸易涨幅居前。大消费方向，白酒、医疗器械、等调整居前。

  概念板块，光刻机概念股全天大涨。

  消息面，工信部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。其中在电子专用装备目录下，集成电路生产装备包括氟化氩GKJ，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。

  为了帮助投资者朋友更好的理解光刻机产业链，源达研究院梳理了光刻机相关投资逻辑和质优标的：

1.1光刻机产业链

  事件：工信部近日公布《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》，其中包含氟化氨光刻机和氣化氙光刻机:信息显示，氟化氯光刻机光源248纳米，分辨率<110nr0，套刻精度<25nm;氟化氣光刻机光源193纳米，分辨率<65nm，套刻精度<8nm。据了解，按套刻精度与量产工艺 1:3的关系，该光刻机可用于量产 28nm 工艺芯片。

  光刻机是半导体设备中最核心的品类，光刻机的光刻精度决定了IC芯片的制程节点。目前全球光刻机市场由荷兰ASML一家独大，2023年全球光刻机市场规模约为271亿美元，目前该品类国产化率近乎为0，仅上海微电子可覆盖90nm光刻精度的DUV光刻机。

  美日荷联合对华半导体供应链制裁以来，上游“卡脖子”问题已得到广泛重视，设备、材料陆续突破，而光刻机也必将作为重点攻克项目。根据有关报道，上海微电子正在进行28nm节点光刻机的研发，并有望在2025年推出样机。假使国产光刻机得到突破，有望推动半导体制造产业链国产化向前迈进一大步，并打开光刻机及上游零部件供应的巨大市场。

  在光刻机关键系统中，我们认为核心的器件有：用于发光的光源系统、用于精准成像的光学镜头、用于提高产能及影响套刻精度的工作台。建议关注：波长光电、英诺激光（光源）；富创精密、新莱应材（零部件）；赛微电子（光学镜头）；华卓精科（工作台、未上市）；上海微电子（光刻机整机、未上市）。

1.2建议关注

  1）富创精密：富创精密是国内半导体设备零部件龙头企业，公司专注于金属材料零部件精密制造技术，主要产品分为工艺零部件、结构零部件、模组产品、气体管路四大类，应用于半导体光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备等。公司目前已能实现7nm工艺制程半导体零部件的量产，工艺完备性处于全球领先水平。

  2）新莱应材：公司是国内高洁净应用材料领先的研发与制造商，主要产品包括泵、管道、法兰、管件、阀门、真空室等高洁净零部件，下游覆盖半导体、食品、医药三大领域。半导体高纯及超高纯材料主要应用于半导体厂务端和设备端，2023年全球/我国市场规模135/42亿美元。公司成功进入应用材料、泛林、北方华创、台积电、长江存储等客户供应链。未来有望凭借优异的技术水平和丰富的认证经验，深入国产供应链。

2.1产业链重点公司万得一致预测

表1：万得一致盈利预测

资料来源：Wind一致预期（2024/09/13），源达信息证券研究所