今日市场波动加大，主板维持相对强势的整理，而创业板、深成指早盘明显走低午后出现一波修复。

盘面上，贵金属、化学制药、橡胶制品、生物制品、农产品加工、综合、元件等表现强势，处于行业涨幅榜前列。

题材概念，重组蛋白、光刻机、中船系、毛发医疗、减肥药、光刻胶等概念亦有所表现。

消息面，6月30日，摩尔线程和沐曦股份同日公告科创板IPO获得上交所受理。其中摩尔线程在招股说明书中提到，首创Chiplet 可扩展架构，支持计算Die、HBM3e存储Die与I/O Die灵活配置。采用CoWoS 2.5D封装结合自研的HBM控制器，兼容国际和国产HBM颗粒。通过3D TSV垂直互连和3D的NoC架构，实现高带宽、高性能、低功耗芯片产品。

技术面，今日指数明显分化，主板全天相对强势，维持红盘整理的局面，创业板探底回升但依旧维持水下运行。同时板块轮动速度显著加快，早盘银行、光刻机等表现，午后转向创新药、固态电池等，盘面依旧散乱。另外板块回流的下个股回流的力度并不强势，走势上又面临前期阶段高点，接下来不排除还有震荡整理的可能。

为了帮助投资者朋友更好的把握光刻机相关的机会，源达研究院梳理了相关行业逻辑和质优标的：

1.光刻机产业链

从光刻机是半导体设备中最核心的品类，光刻机的光刻精度决定了IC芯片的制程节点。目前全球光刻机市场由荷兰ASML一家独大，2023年全球光刻机市场规模约为271亿美元，目前该品类国产化率近乎为0，仅上海微电子可覆盖90nm光刻精度的DUV光刻机。

美日荷联合对华半导体供应链制裁以来，上游“卡脖子”问题已得到广泛重视，设备、材料陆续突破，而光刻机也必将作为重点攻克项目。根据有关报道，上海微电子正在进行28nm节点光刻机的研发，并有望在2025年推出样机。假使国产光刻机得到突破，有望推动半导体制造产业链国产化向前迈进一大步，并打开光刻机及上游零部件供应的巨大市场。

在光刻机关键系统中，我们认为核心的器件有：用于发光的光源系统、用于精准成像的光学镜头、用于提高产能及影响套刻精度的工作台。建议关注：波长光电、英诺激光（光源）；富创精密、新莱应材（零部件）；赛微电子（光学镜头）；华卓精科（工作台、未上市）；上海微电子（光刻机整机、未上市）。

2建议关注

1）富创精密：富创精密是国内半导体设备零部件龙头企业，公司专注于金属材料零部件精密制造技术，主要产品分为工艺零部件、结构零部件、模组产品、气体管路四大类，应用于半导体光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备等。公司目前已能实现7nm工艺制程半导体零部件的量产，工艺完备性处于全球领先水平。

2）新莱应材：公司是国内高洁净应用材料领先的研发与制造商，主要产品包括泵、管道、法兰、管件、阀门、真空室等高洁净零部件，下游覆盖半导体、食品、医药三大领域。半导体高纯及超高纯材料主要应用于半导体厂务端和设备端，2023年全球/我国市场规模135/42亿美元。公司成功进入应用材料、泛林、北方华创、台积电、长江存储等客户供应链。未来有望凭借优异的技术水平和丰富的认证经验，深入国产供应链。

投资顾问 王玉倩，投资顾问，执业登记编号：A0190621030001。

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