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市场冲高回落 盘面情绪显著降温
今日波动明显加大,尤其午后在大金融的带动下快速冲高但之后持续性不佳再度回落,涨幅明显收窄。
...2025-07-04 -
指数再创反弹高点 热点轮动切换
今日市场沪弱深强,主板围绕平盘线展开整理,创业板震荡走高,午后再创阶段高点。
...2025-07-03 -
市场大小分化 权重相对活跃
今日市场呈现分化局面,上证指数相对强势,全天在平盘线附近展开整理。创业板、深成指表现低迷。
...2025-07-02 -
市场震荡 板块分化
今日市场波动加大,主板维持相对强势的整理,而创业板、深成指早盘明显走低午后出现一波修复。
...2025-07-01 -
指数低开高走 盘面积极活跃
今日市场低开高走之后维持震荡上行的节奏,创业板表现相对强势。
...2025-06-30
三大指数分化,中小创跌幅居前,创业板大跌-2.95%。
市场阶段性涨幅较大,节后冲高连续回落。盘面上,板块个股大幅分化,高位股集体回落。
短期波幅进一步加大,规避高位股、绩差股回落风险。
操作上,分化中,对于高位股、绩差股,及时规避大幅回落风险。
为了帮助投资者朋友更好的把握结构性机会,源达研究院梳理了重点方向逻辑和质优标的:
1. 投资机会
国内光刻机发展道阻且长,国产突破行则将至。
1)半导体行业迎来复苏,美日荷制裁推动设备国产化。2024 年半导体行业逐步进入周期上行阶段,2025 年行业有望迎来更快增长。根据 SEMI 预测,2024/2025 年全球半导体设备行业市场规模为 983/1128 亿美元,同比+3%/+15%。2022 年起美日荷陆续发布对华设备出口管制措施,半导体设备国产化迫在眉睫,而大陆晶圆厂有望逆势扩张带动设备资本开支。光刻机是半导体设备明珠,上游零部件供应复杂且品类广泛。光刻机是半导体制造中最核心的设备,光刻机的性能直接决定晶圆产线的制程节点和产能上限。光刻机的基本结构由激光器、照明光学模组、物镜、晶圆传输模组、晶圆扫描模组和扫描刻线模组等组成。
2)光刻机市场阿斯麦一家独大,国产替代迫在眉睫。ASML 在全球市场中一家独大,2023 年ASML 供给了全球 92%的高端光刻机(ArF、ArFi、EUV)。2023 年 6 月 30 日荷兰对华管制措施落地,2000i 以上的光刻机型号限制出口。根据 ASML 公告,2024 年 H1 对中国大陆设备销售收入为 42.77 亿欧元,占公司光刻机销售收入的 49%,同比增长 142%,凸显大陆晶圆厂对光刻机的需求旺盛。目前光刻机国产化率几乎为零,仅上海微电子有 90nm 工艺节点的 DUV 光刻机产品。
3)光刻机国产化曙光已现,65nm 节点光刻机有望突破。近日,工信部发布《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》中的电子专用装备目录下,集成电路设备方向披露一台氟化氩光刻机,属于 DUV 光刻机。光刻机分辨率≤65nm、套刻≤8nm。若按照套刻精度与量产工艺约 1:3 的关系,氟化氩光刻机有望用于 28nm 芯片产线中的部分工艺。此外根据有关报道,上海微电子正在进行 28nm 浸没式光刻机样机的研发生产。
2.投资建议
我们认为光刻机的核心器件包括激光器、光学镜头和工作台等。
1)激光器是光刻机的光源,决定了光刻机的套刻精度和工艺节点。
2)光学镜头:保证光刻机光源可以精准成像在晶圆表面,伴随光刻机技术衍进,投影物镜结构愈加复杂、尺寸增加。
3)工作台:2004 年 ASML 将双工作台推广至 TX 系列光刻机,光刻机产能显著提升。